离子束

1、完成电路连接之后，接通偏置电压，在没有离子束电流的情况下进行电流测量，以验证系统能够正常工作。

2、在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中，离子源是其中最关键的单元技术之一。

3、用AFM表征了有离子源电子束蒸发制备薄膜的表面形貌、粗糙度、相位信息，分析认为此工艺下Ta2O5薄膜为岛状模式生长，不同厚度薄膜表面粗糙度变化不大。

4、本文介绍一种新型的光学薄膜制备用多离子束电子束系统。

5、本文采用有无离子源辅助电子束蒸发两种工艺制备了Ta2O5薄膜，研究了制备工艺对Ta2O5薄膜性能的影响。

6、本发明涉及一种高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置。

7、介绍了一种先进的氚离子束标记技术，专门用于蛋白质、肤和非挥发性有机化合物的氚标记。

8、本文系统论述涉及强流加速器等强流离子束装置中产生的束晕混沌的复杂性理论与控制方法及其应用前景。

9、本发明亦提供一分析器磁铁以及包括前述磁极的离子布植机，因此实现了一改良一离子布植机中的低能量离子束空间电荷中和的方法。

10、低能离子束物理诱变育种技术有着广泛的应用前景。

11、简述了低能离子束生物技术在6个主要方面的研究成果。

12、本文基于产业化应用和改善类金刚石膜与基体结合力为目的，在大型工业用等离子体—离子束增强沉积系统中，获得了DLC膜和梯度复合dlc膜。

13、介绍了研究原子能级超精细结构的两个实验：磁共振实验、共线快离子束相互作用实验。

14、强流脉冲离子束因其自身的诸多优越性，在材料领域里越来越受到重视。

15、离化团束的溅射产额比之单体离子束高100倍以上。

16、观察到氧杂质对形成条件的影响，简单讨论了离子束混合形成硅化物的机理。

17、离子束用于各种应用场合，诸如，质谱仪和离子注入机等。

18、利用电子束离子源（EBIS）或者电子束离子陷阱（EBIT）产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面，离子束与靶面作用并复合辐射特征X射线；

19、讨论了离子束辅助沉积技术在真空沉积过程中的应用原理。

20、低能离子束诱变的主要特点是其具有质量沉积效应。